Low Substrate Temperature Modeling Outlook of Scaled n-MOSFET (Record no. 387328)

MARC details
000 -CABECERA
campo de control de longitud fija 04772nam a22004335i 4500
001 - NÚMERO DE CONTROL
campo de control 387328
003 - IDENTIFICADOR DEL NÚMERO DE CONTROL
campo de control ES-MaUEC
005 - FECHA Y HORA DE LA ÚLTIMA TRANSACCIÓN
campo de control 20230313201721.0
006 - CÓDIGOS DE INFORMACIÓN DE LONGITUD FIJA--CARACTERÍSTICAS DEL MATERIAL ADICIONAL
campo de control de longitud fija a||||fo|||| 00| 0
007 - CAMPO FIJO DE DESCRIPCIÓN FÍSICA--INFORMACIÓN GENERAL
campo de control de longitud fija cr nn 008mamaa
008 - DATOS DE LONGITUD FIJA--INFORMACIÓN GENERAL
campo de control de longitud fija 220601s2018 sz | s |||| 0|eng d
020 ## - NÚMERO INTERNACIONAL ESTÁNDAR DEL LIBRO
Número Internacional Estándar del Libro 9783031020346
024 7# - IDENTIFICADOR DE OTROS ESTÁNDARES
Número estándar o código 10.1007/978-3-031-02034-6
Fuente del número o código doi
040 ## - FUENTE DE LA CATALOGACIÓN
Centro catalogador/agencia de origen ES-MaUEC
Lengua de catalogación spa
Centro/agencia transcriptor ES-MaUEC
Centro/agencia modificador ES-MaUEC
050 #4 - SIGNATURA TOPOGRÁFICA DE LA BIBLIOTECA DEL CONGRESO
Número de clasificación TP482
Número de documento/Ítem 2018 EB
100 1# - ENTRADA PRINCIPAL--NOMBRE DE PERSONA
Nombre de persona Ashraf, Nabil Shovon,
Término indicativo de función/relación autor
Código de función/relación aut
-- http://id.loc.gov/vocabulary/relators/aut
9 (RLIN) 687308
Fechas asociadas al nombre 1974-
245 10 - MENCIÓN DE TÍTULO
Título Low Substrate Temperature Modeling Outlook of Scaled n-MOSFET
Mención de responsabilidad, etc. by Nabil Shovon Ashraf
250 ## - MENCIÓN DE EDICIÓN
Mención de edición 1st edition 2018
264 #1 - PRODUCCIÓN, PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, FABRICACIÓN Y COPYRIGHT
Producción, publicación, distribución, fabricación y copyright Cham
Nombre del de productor, editor, distribuidor, fabricante Springer International Publishing
Fecha de producción, publicación, distribución, fabricación o copyright 2018
300 ## - DESCRIPCIÓN FÍSICA
Extensión 1 recurso en línea (XI, 77 páginas)
336 ## - TIPO DE CONTENIDO
Término de tipo de contenido texto
Código de tipo de contenido txt
Fuente rdacontent
337 ## - TIPO DE MEDIO
Nombre/término del tipo de medio electrónico
Código del tipo de medio c
Fuente rdamedia
338 ## - TIPO DE SOPORTE
Nombre/término del tipo de soporte recurso electrónico
Código del tipo de soporte cr
Fuente rdacarrier
347 ## - CARACTERÍSTICAS DEL ARCHIVO DIGITAL
Tipo de archivo archivo de texto
Formato de codificación PDF
490 0# - MENCIÓN DE SERIE
Mención de serie Synthesis Lectures on Emerging Engineering Technologies
Número Internacional Normalizado para Publicaciones Seriadas 2381-1439
505 0# - NOTA DE CONTENIDO CON FORMATO
Nota de contenido con formato Preface -- Acknowledgments -- Introduction -- Historical Perspectives of Scaled MOSFET Evolution -- Simulation Results of On-State Drain Current and Subthreshold Drain Current at Substrate Temperatures Below 300 K -- Simulation Results on Substrate Mobility and On-Channel Mobility of Conventional Long-Channel ??-MOSFET at Substrate Temperatures 300 K and below -- Simulation Outcomes of Subthreshold Slope Factor or Coefficient for Different Substrate Temperatures at the Vicinity of a Subthreshold Region to Deep Subthreshold Region of a Long-Channel ??-MOSFET -- Review of Scaled Device Architectures for Their Feasibility To Low-Temperature Operation Simulation Perspectives of the Author's Current Research -- Summary of Research Results and Conclusions -- References -- Author's Biography.
520 ## - SUMARIO, ETC.
Sumario, etc. Low substrate/lattice temperature (< 300 K) operation of n-MOSFET has been effectively studied by device research and integration professionals in CMOS logic and analog products from the early 1970s. The author of this book previously composed an e-book in this area where he and his co-authors performed original simulation and modeling work on MOSFET threshold voltage and demonstrated that through efficient manipulation of threshold voltage values at lower substrate temperatures, superior degrees of reduction of subthreshold and off-state leakage current can be implemented in high-density logic and microprocessor chips fabricated in a silicon die. In this book, the author explores other device parameters such as channel inversion carrier mobility and its characteristic evolution as temperature on the die varies from 100-300 K. Channel mobility affects both on-state drain current and subthreshold drain current and both drain current behaviors at lower temperatures have been modeled accurately and simulated for a 1 ??m channel length n-MOSFET. In addition, subthreshold slope which is an indicator of how speedily the device drain current can be switched between near off current and maximum drain current is an important device attribute to model at lower operating substrate temperatures. This book is the first to illustrate the fact that a single subthreshold slope value which is generally reported in textbook plots and research articles, is erroneous and at lower gate voltage below inversion, subthreshold slope value exhibits a variation tendency on applied gate voltage below threshold, i.e., varying depletion layer and vertical field induced surface band bending variations at the MOSFET channel surface. The author also will critically review the state-of-the art effectiveness of certain device architectures presently prevalent in the semiconductor industry below 45 nm node from the perspectives of device physical analysis at lower substrate temperature operating conditions. The book concludes with an emphasis on modeling simulations, inviting the device professionals to meet the performance bottlenecks emanating from inceptives present at these lower temperatures of operation of today's 10 nm device architectures.
988 ## - NOTA LOCAL 598
Nota local 598 (boletines) Synthesis Collection of Technology_2018
650 #7 - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA--TÉRMINO DE MATERIA
Fuente del encabezamiento o término embne
9 (RLIN) 674511
Término de materia o nombre geográfico como elemento de entrada Criogenia
650 #7 - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA--TÉRMINO DE MATERIA
Fuente del encabezamiento o término embne
9 (RLIN) 162208
Término de materia o nombre geográfico como elemento de entrada Transistores de efecto de campo
650 #7 - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA--TÉRMINO DE MATERIA
Fuente del encabezamiento o término embne
9 (RLIN) 140004
Término de materia o nombre geográfico como elemento de entrada Semiconductores
776 08 - ENTRADA/ENLACE A UN FORMATO FÍSICO ADICIONAL
Información de relación/Frase instructiva de referencia Printed edition:
Número Internacional Estándar del Libro 9783031001406
776 08 - ENTRADA/ENLACE A UN FORMATO FÍSICO ADICIONAL
Información de relación/Frase instructiva de referencia Printed edition:
Número Internacional Estándar del Libro 9783031009068
776 08 - ENTRADA/ENLACE A UN FORMATO FÍSICO ADICIONAL
Información de relación/Frase instructiva de referencia Printed edition:
Número Internacional Estándar del Libro 9783031031625
856 40 - LOCALIZACIÓN Y ACCESO ELECTRÓNICOS
Identificador Uniforme del Recurso https://go.openathens.net/redirector/universidadeuropea.es?url=https://doi.org/10.1007/978-3-031-02034-6
Nota pública Acceso a este recurso digital (usuarios Universidad Europea de Madrid)
942 ## - ELEMENTOS DE PUNTO DE ACCESO ADICIONAL (KOHA)
Fuente del sistema de clasificación o colocación Library of Congress Classification
Tipo de ítem Koha LIBRO-E NO PRÉSTAMO
998 ## - DATOS ESTADÍSTICOS
Fecha de catalogación 03/2023
Tipo de materia E-book
Catalogador Susana Carmen Delgado Sanz
Catalogado
Holdings
Información adicional para el OPAC Código 2 (categoría) Estado de pérdida Fuente del sistema de clasificación o colocación Tipo de material Código 1: Estado físico No se presta Código de colección Estado Localización permanente Ubicación/localización actual Ubicación en estantería Fecha de adquisición Tipo de préstamo Total de préstamos Signatura topográfica completa Código de barras Fecha visto por última vez Precio válido a partir de Tipo de ítem Koha
Acceso concurrente No retirado   Library of Congress Classification E-Libro Buen estado Acceso electrónico Ciencias e Ingeniería Acceso electrónico Madrid Digital Madrid Digital Acceso Electrónico (UEM) 25/11/2022 En línea   TP482 2018 EB eBook.01112527 25/11/2022 25/11/2022 LIBRO-E NO PRÉSTAMO